 | • レポートコード：MRC-DCM2482 • 発行年月：2025年12月 • レポート形態：英文PDF • 納品方法：Eメール（納期：2～3日） • 産業分類：化学＆材料 |
| 1名利用ライセンス | お問い合わせフォーム（お見積・サンプル・質問） |
| 企業利用ライセンス | お問い合わせフォーム（お見積・サンプル・質問） |
※下記記載のレポート概要・目次・セグメント項目・企業名などは最新情報ではない可能性がありますので、ご購入の前にサンプルを依頼してご確認ください。
レポート概要
193nmフォトレジストは、半導体製造において重要な材料の一つです。このフォトレジストは、193nmの波長の紫外線を用いて露光されるため、非常に高解像度のパターン形成が可能です。フォトレジストは、シリコンウエハー上に薄く塗布され、露光後に現像されることで、微細な構造を形成します。
193nmフォトレジストの主な特徴は、その高い感度と解像度です。この材料は、従来の248nmフォトレジストと比較して、より短波長の光を利用するため、微細なパターンをより精密に形成することができます。また、193nmフォトレジストは、通常、アモルファスポリマーを基にしており、化学的な安定性や熱安定性が高いことも特徴です。これにより、露光後の処理や現像過程においても高い性能を発揮します。
種類としては、193nmフォトレジストには、主にアニオン系とカチオン系の2種類があります。アニオン系フォトレジストは、高い解像度を持ち、特に微細パターンの形成に適しています。一方、カチオン系フォトレジストは、感度が高く、露光時間の短縮が可能ですが、解像度ではアニオン系に劣る場合があります。さらに、これらのフォトレジストは、深紫外線（DUV）露光技術と組み合わせて使用されることが多く、最先端の半導体プロセスにおいて不可欠な材料となっています。
用途としては、193nmフォトレジストは主に半導体デバイスの製造において使用されます。特に、CMOS（相補型金属酸化膜半導体）技術やMEMS（微小エレクトロメカニカルシステム）デバイスの製造において広く採用されています。また、液晶ディスプレイや太陽光発電パネルの製造においても利用されることがあります。高解像度のパターン形成が可能なため、微細な回路設計やデバイスの集積度を向上させるための重要な要素となっています。
関連技術としては、EUV（極端紫外線）露光技術が挙げられます。EUVは、193nmよりもさらに短波長の13.5nmを使用するため、より微細なパターン形成が可能です。しかし、EUVは技術的な課題が多く、193nmフォトレジストは依然として多くの半導体製造プロセスで主流の技術として使用されています。また、ナノインプリントリソグラフィーや自己組織化技術など、新しいパターン形成技術の研究も進んでおり、これらの技術と組み合わせることで、さらなる高解像度化が期待されています。
このように、193nmフォトレジストは、半導体製造において不可欠な材料であり、高解像度でのパターン形成が可能な特性を持っています。今後も、半導体産業の進化とともに重要な役割を果たしていくことでしょう。
| 193nmフォトレジストの世界市場レポート（Global 193nm Photoresist Market）では、セグメント別市場規模、主要地域と国別市場規模、国内外の主要プレーヤーの動向と市場シェア、販売チャネルなどの項目について詳細な分析を行いました。
最新の調査によると、193nmフォトレジストの世界市場規模は、2025年のxxx百万ドルから2026年にはxxx百万ドルとなり、2025年から2026年の間にxx％の変化があると推定されています。193nmフォトレジストの世界市場規模は、今後5年間でxx％の年率で成長すると予測されています。 地域・国別分析では、北米、アメリカ、カナダ、メキシコ、ヨーロッパ、ドイツ、イギリス、フランス、ロシア、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどを対象にして、193nmフォトレジストの市場規模を算出しました。 193nmフォトレジスト市場は、種類別には、193nm乾式フォトレジスト、193nm湿式フォトレジストに、用途別には、半導体＆ICS、その他に区分してグローバルと主要地域における2021年～2031年の市場規模を調査・予測しました。 当レポートに含まれる主要企業は、JSR、Shin-Etsu、TOK、…などがあり、各企業の193nmフォトレジスト販売量、売上、価格、市場シェアなどを分析しました。 グローバルにおける193nmフォトレジスト市場で新ビジネス創出や売上拡大に挑むクライアント様が、成長トレンドを取り込み、課題を解決する際に必ず役立つ一冊となっておりますので是非ご活用ください。 【目次】 193nmフォトレジスト市場の概要（Global 193nm Photoresist Market） 主要企業の動向 193nmフォトレジストの世界市場（2021年～2031年） 193nmフォトレジストの地域別市場分析 193nmフォトレジストの北米市場（2021年～2031年） 193nmフォトレジストのヨーロッパ市場（2021年～2031年） 193nmフォトレジストのアジア市場（2021年～2031年） 193nmフォトレジストの南米市場（2021年～2031年） 193nmフォトレジストの中東・アフリカ市場（2021年～2031年） 193nmフォトレジストの販売チャネル分析 調査の結論 |
※弊社では193nmフォトレジストの中国市場レポートも取り扱っています。
|
【中国の193nmフォトレジスト市場レポート（資料コード：MRC-DCM2482-CN）】
本調査資料は中国の193nmフォトレジスト市場について調査・分析し、市場概要、市場動向、市場規模、市場予測、市場シェア、企業情報などを掲載しています。中国における種類別（193nm乾式フォトレジスト、193nm湿式フォトレジスト）市場規模と用途別（半導体＆ICS、その他）市場規模データも含まれています。193nmフォトレジストの中国市場レポートは2026年英語版で、一部カスタマイズも可能です。 ・中国の193nmフォトレジスト市場概要 |