 | • レポートコード：MRC-CR16488 • 発行年月：2025年10月 • レポート形態：英文PDF • 納品方法：Eメール（納期：2～3日） • 産業分類：化学＆材料 |
| 1名利用ライセンス | お問い合わせフォーム（お見積・サンプル・質問） |
| 企業利用ライセンス | お問い合わせフォーム（お見積・サンプル・質問） |
※下記記載のレポート概要・目次・セグメント項目・企業名などは最新情報ではない可能性がありますので、ご購入の前にサンプルを依頼してご確認ください。
レポート概要
極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクスは、半導体製造において重要な役割を果たす材料です。リソグラフィは、半導体チップのパターンを形成するためのプロセスであり、極端紫外線（EUV）リソグラフィは、次世代の半導体技術として注目されています。EUVリソグラフィでは、波長が約13.5ナノメートルの極端紫外線を使用して、微細なパターンをシリコンウェハー上に転写します。このプロセスには、高精度なマスクが必要であり、その基盤となるのがマスクブランクスです。
マスクブランクスは、主に高純度のシリコンウエハーに薄膜を堆積させたものです。これにより、EUV光を適切に透過させる特性を持っています。マスクブランクスの特徴としては、非常に高い平坦性、均一性、低欠陥率が挙げられます。これらの特性は、リソグラフィプロセスにおいて高い解像度を実現するために不可欠です。また、マスクブランクスは、EUV光の特性に適応するために、特別な材料や製造プロセスが必要です。
マスクブランクスの種類には、主に二つのタイプがあります。一つは、通常のリソグラフィ用マスクブランクスで、もう一つはEUV専用のマスクブランクスです。EUVマスクブランクスは、特にEUV光に対する反射率が高く、エネルギー損失を最小限に抑える設計がされています。これにより、EUVリソグラフィの高解像度パターン転写が可能になります。
用途としては、主に半導体デバイスの製造に用いられています。特に、微細化が進む次世代プロセッサやメモリチップの製造において、EUVリソグラフィは欠かせない技術となっています。また、マスクブランクスは、フォトマスクの製造プロセスにも利用され、最終的にはシリコンウェハー上に高精度なパターンを形成します。
関連技術としては、EUV光源技術や、マスクの検査・修正技術が挙げられます。EUV光源は、リソグラフィ用に必要な高出力の極端紫外線を生成するために、特別なレーザー技術やプラズマ技術が使用されています。また、マスクの検査技術は、製造されたマスクに欠陥がないかを確認するために重要です。これには、電子顕微鏡やX線検査技術が用いられます。
最近の進展として、マスクブランクスの製造コストの低減や、性能の向上が求められています。これにより、EUVリソグラフィの普及が加速し、より高集積度の半導体デバイスの実現が期待されています。極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクスは、今後の半導体産業においてますます重要な役割を果たすことになるでしょう。
| 極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクスの世界市場レポート（Global Extreme Ultraviolet Lithography Mask Blanks Market）では、セグメント別市場規模、主要地域と国別市場規模、国内外の主要プレーヤーの動向と市場シェア、販売チャネルなどの項目について詳細な分析を行いました。
最新の調査によると、極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクスの世界市場規模は、2024年のxxx百万ドルから2025年にはxxx百万ドルとなり、2024年から2025年の間にxx％の変化があると推定されています。極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクスの世界市場規模は、今後5年間でxx％の年率で成長すると予測されています。 地域・国別分析では、北米、アメリカ、カナダ、メキシコ、ヨーロッパ、ドイツ、イギリス、フランス、ロシア、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどを対象にして、極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクスの市場規模を算出しました。 極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクス市場は、種類別には、クォーツマスク、ソーダマスク、その他に、用途別には、半導体、IC、その他に区分してグローバルと主要地域における2020年～2030年の市場規模を調査・予測しました。 当レポートに含まれる主要企業は、Hoya、AGC Electronics America、S&S Tech、…などがあり、各企業の極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクス販売量、売上、価格、市場シェアなどを分析しました。 グローバルにおける極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクス市場で新ビジネス創出や売上拡大に挑むクライアント様が、成長トレンドを取り込み、課題を解決する際に必ず役立つ一冊となっておりますので是非ご活用ください。 【目次】 極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクス市場の概要（Global Extreme Ultraviolet Lithography Mask Blanks Market） 主要企業の動向 極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクスの世界市場（2020年～2030年） 極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクスの地域別市場分析 極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクスの北米市場（2020年～2030年） 極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクスのヨーロッパ市場（2020年～2030年） 極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクスのアジア市場（2020年～2030年） 極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクスの南米市場（2020年～2030年） 極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクスの中東・アフリカ市場（2020年～2030年） 極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクスの販売チャネル分析 調査の結論 |
※弊社では極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクスの中国市場レポートも取り扱っています。
|
【中国の極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクス市場レポート（資料コード：MRC-CR16488-CN）】
本調査資料は中国の極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクス市場について調査・分析し、市場概要、市場動向、市場規模、市場予測、市場シェア、企業情報などを掲載しています。中国における種類別（クォーツマスク、ソーダマスク、その他）市場規模と用途別（半導体、IC、その他）市場規模データも含まれています。極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクスの中国市場レポートは2025年英語版で、一部カスタマイズも可能です。 ・中国の極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクス市場概要 |